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先进封装技术
应用:在芯片倒装焊(Flip Chip)中作为焊料或热界面材料,实现芯片与基板的电气连接和热传导。
特点:低熔点(156.6℃)和高可靠性,适用于精密电子器件的低温封装。
溅射时间与沉积厚度
厚度监控:使用石英晶体微天平(QCM)实时监测薄膜沉积速率,结合靶材消耗速率(约 0.1~0.5 μm/min,与功率相关),控制溅射时间。
靶材利用率:避免过度溅射导致靶材 “打穿”(剩余厚度<2 mm 时需及时更换),通常平面靶材利用率约 30%~40%,旋转靶可提升至 60% 以上。
真空系统维护
腔体清洁:每次溅射后及时清理腔体内壁及基片台的铟沉积层(铟延展性强,易粘附在腔体表面,长期积累可能导致短路或影响真空度)。
可用棉签蘸取乙醇擦拭,或用软质刮刀轻轻刮除(避免损伤腔体涂层)。
真空泵保养:定期更换真空泵油(因铟蒸气可能污染泵油,建议每 200 小时检查一次),防止油液粘度升高影响抽气效率。
小金属:粗铟,精铟,ito铟靶材,粗稼,金属镓99.99以及废料。高价回收镍片,铣刀, 数控刀片, 轻质数控刀,废合金针,针尖,铟.铟丝.氧化铟.
高价回收镍片,镍泥,镍催化剂,含镍物料,铣刀, 数控刀片, 轻质数控刀,废合金针,针尖,高价 回收 ( 钽 ) 钽丝 钽粉 钽电容 钽铌 钽钨 ,铟.铟丝.氧化铟.金.金属锗.锗锭99.999等.